فیلترها/جستجو در نتایج    

فیلترها

سال

بانک‌ها




گروه تخصصی











متن کامل


اطلاعات دوره: 
  • سال: 

    1384
  • دوره: 

    15
  • شماره: 

    55 (ویژه نامه فیزیک)
  • صفحات: 

    1-6
تعامل: 
  • استنادات: 

    0
  • بازدید: 

    1266
  • دانلود: 

    0
چکیده: 

کاشت یون نیتروژن در آلومینیوم توسط نویسند گان زیادی بررسی شده و نتایج تا حدی متفاوت بوده است. در این تحقیق کاشت یون نیتروژن در دزهای بین 1017× 4 تا 1019 × 1 Cm2/یون و انرژی 80 kev در آلومینیوم خالص هیچگونه عملیات حرارتی بررسی شده است. به وسیله پراش اشعه χ ترکیبات فازی مشخص شد. توزیع نیتروژن و نیترید آلومینیوم در نمونه هایی با دزهای مختلف به وسیله دستگاه SIMS آنالیز گردید. سختی نمونه ها قبل و بعد از کاشت به وسیله ابزار ویکرز آزمایش گرد ید. نتایج نشان می دهد که سختی نمونه ها بعد از فرآیند کاشت یون و به خاطر تشکیل فاز نیترید آلومینیوم به میزان زیادی افزایش می یابد اما در دزهای بیشتر از 1018 × 5 Cm2/یون کاهش می یابد.

شاخص‌های تعامل:   مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

بازدید 1266

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resourcesدانلود 0 مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resourcesاستناد 0 مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resourcesمرجع 0
نویسندگان: 

KHORAM MANSOUR | GHOMI HAMID

اطلاعات دوره: 
  • سال: 

    2016
  • دوره: 

    10
  • شماره: 

    1
  • صفحات: 

    41-46
تعامل: 
  • استنادات: 

    0
  • بازدید: 

    361
  • دانلود: 

    0
چکیده: 

A cold magnetized plasma sheath is considered to examine the gas pressure effect on the sheath dynamics.A fluid model is used to describe the plasma sheath dynamic. The governing fluid equatIONs in the plasma are solved from plasma center to the target using the finite difference method and some convenient initial and boundary conditIONs at the plasma center and target. It is found that, the ION-neutral collisION has significant effect on the dynamic characteristics of the high-voltage sheath in the plasma immersION ION implantatION (PIII). It means that, the temporal profile of the ION dose on the target and sheath width are decreased by increasing the gas pressure.Also, the gas pressure substantially diminishes the temporal psychograph of ION incident angle on the target.

شاخص‌های تعامل:   مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

بازدید 361

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resourcesدانلود 0 مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resourcesاستناد 0 مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resourcesمرجع 0
نویسندگان: 

SADOUGH- VANINI A.

نشریه: 

AMIRKABIR

اطلاعات دوره: 
  • سال: 

    2002
  • دوره: 

    13
  • شماره: 

    49
  • صفحات: 

    15-25
تعامل: 
  • استنادات: 

    0
  • بازدید: 

    265
  • دانلود: 

    0
چکیده: 

In order to improve the wear and corrosION resistance as well as the hardness of 304 stainless steel (SS) for mechanical use, surface treatment derived from those applied in mechanical engineering industries were investigated. Surface characterizatION according to the different ION implantatION showed that corrosION and wear resistances were strongly improved. In the same way, micro hardness was significantly increased after ION implantatION.

شاخص‌های تعامل:   مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

بازدید 265

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resourcesدانلود 0 مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resourcesاستناد 0 مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resourcesمرجع 0
مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources
نشریه: 

نانو مقیاس

اطلاعات دوره: 
  • سال: 

    1401
  • دوره: 

    8
  • شماره: 

    4
  • صفحات: 

    146-152
تعامل: 
  • استنادات: 

    0
  • بازدید: 

    109
  • دانلود: 

    34
چکیده: 

در این پژوهش، به بررسی اثر کاشت یون نیتروژن بر ساختار کریستالی و سطحی فیلم نازک اکسید مس پرداخته شده است. بدین منظور لایه نازک به ضخامت nm 150 به روش کندوپاش از جنس اکسید مس بر زیر لایه سیلیکون لایه نشانی شد. سپس، عمل کاشت یون نیتروژن با استفاده از شتاب دهنده الکترواستاتیک با انرژی keV 50 به مدت3 ثانیه و با شار 1014× 2 ذره بر سانتی متر مربع انجام شد. جریان اندازه گیری در این آزمایش با استفاده از دستگاه نمایه سنج و براش آن به تابع گاوسی در حد چند میلی آمپر به دست آمد. از نتایج آنالیزهای حاصل از XRD مشاهده شد که تعداد قله ها و ساختار بلوری تغییر کرده است. نتایج آنالیز SEM به هم ریختن ساختار سطحی بر اثر کاشت را نشان می دهد و همچنین، از اندازه گیری پارامترهای ناهمواری AFM مشخص شد که لایه نازک اکسید مس پس از کاشت یون یکنواخت تر شده و ناهمواری یا زمختی آن کاهش پیدا کرده است. با اندازه گیری گاف انرژی اکسید مس مشخص شد که پس از کاشت یون مقدار آن از eV 26/2 به eV 34/2 افزایش پیدا کرده است که می توان برای ساخت انواع حسگرها گاف انرژی آنرا تغییر داد.

شاخص‌های تعامل:   مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

بازدید 109

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resourcesدانلود 34 مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resourcesاستناد 0 مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resourcesمرجع 0
اطلاعات دوره: 
  • سال: 

    1398
  • دوره: 

    8
  • شماره: 

    2
  • صفحات: 

    61-69
تعامل: 
  • استنادات: 

    0
  • بازدید: 

    433
  • دانلود: 

    160
چکیده: 

آلیاژ نایتینول (NiTi) به دلیل در بر بر داشتن خواصی همانند انعطاف انعطاف پذیری فوق فوق العاده با کرنش زیاد قابل بازگشت، اثر حافظه حافظه داری، ویژگی های میرایی بالا، مقاومت خوردگی و زیست زیست سازگاری خوب، دارای کاربرد وسیعی در ساخت قطعات پزشکی و بایو مواد، همانند استنت ها، ایمپلنت های ارتوپدی و ابزارهای جراحی است. اما یکی از مهم ترین مشکلات آلیاژ نایتینول، آزاد شدن یون های نیکل ناشی از تخریب سطح نمونه است، که این یون می تواند به عنوان بازدارنده در فرایندهای آنزیمی موثر در سنتز پروتیین و تکثیر سلول دخالت نماید. اعمال پوشش و کاشت یونی از مهم ترین روش ها جهت بهبود سطحی و رفتار زیستی آلیاژ NiTi است. در این تحقیق بهبود سطحی از طریق کربن دهی به وسیله فرایند کاشت یونی پلاسمایی (CPIII) بر روی سطح آلیاژ NiTi صورت گرفته و سپس رفتار نانومکانیکی پوشش بوسیلهتوسط میکروسکوپ نیروی اتمی (AFM) و روشهای نانودندانه گذاری و نانو نانو خراش و رفتار خوردگی به وسیله آزمون پلاریزاسیون در محلول 5/0 مولار نمک طعام مورد بررسی قرار گرفته است. نتایج بیانگر سطح کاملا همگن، یکنواخت و عاری از نواقص سطحی با عمق کاشت یونی کربن در حدود 50 نانومتر همراه با کاهش میانگین زبری سطحی از 34 به 25 نانومتر است. فرایند کاشت یونی منجر به افزایش سختی و مدول الاستیک به ترتیب 7/80 و 8/21 درصد، کاهش ضریب اصطکاک متوسط از 21/0 به 16/0 و باعث غالب بودن مکانیزم سازوکار سایش برشی همراه با افزایش 85 درصدی بازده مقاومت به خوردگی گردیده است.

شاخص‌های تعامل:   مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

بازدید 433

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resourcesدانلود 160 مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resourcesاستناد 0 مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resourcesمرجع 0
نویسندگان: 

Grayeli Korpi a. | REZAEE S. | BALASHABADI P.

اطلاعات دوره: 
  • سال: 

    2019
  • دوره: 

    12
  • شماره: 

    4
  • صفحات: 

    203-209
تعامل: 
  • استنادات: 

    0
  • بازدید: 

    186
  • دانلود: 

    0
چکیده: 

Nickel films of 300 nm thickness were deposited by electron beam evaporatION at room temperature on 316 stainless steels. CorrosION studies of Ni coated 316 SS have been performed after N+ ION implantatION at different energies of 20, 40, 60 and 80 keV. The structure and surface morphology of the films were evaluated using X-ray diffractION (XRD), atomic force microscope (AFM) and scanning electron microscope (SEM). X-ray diffractION (XRD) analysis showed formatION of nickel nitride phases. The corrosION behavior of the samples was evaluated by potentiodynamic polarizatION test in 3. 5% NaCl solutION. The subsequent Tafel analysis revealed nobler open circuit potential and lower corrosION current density values with increase of beam energy. By increasing the implantatION energy, diffusION effect enhances, hence, larger grains with smoother surfaces are formed. The smoother surfaces show higher resistance in the corroding medium. Increase in implantatION energy was beneficial in improving the corrosION resistance. Prog. Color Colorants Coat. 12 (2019), 203-209© Institute for Color Science and Technology.

شاخص‌های تعامل:   مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

بازدید 186

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resourcesدانلود 0 مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resourcesاستناد 0 مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resourcesمرجع 0
مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources
اطلاعات دوره: 
  • سال: 

    2012
  • دوره: 

    5
تعامل: 
  • بازدید: 

    187
  • دانلود: 

    0
کلیدواژه: 
چکیده: 

IN THE PRESENT STUDY THE EFFECT OF NITROGEN BOMBARDMENT ON THE STRUCTURE OF TITANIUM SURFACE AND CORROSION RESISTANCE HAVE BEEN INVESTIGATED. IN THIS EXPERIMENT 30 KEV NITROGEN ION BEAM OF 5´1017 TO 1´1018 IONS/CM2 FLUENCE WAS USED. CRYSTALLINE STRUCTURE AND CRYSTALLINE SIZE OF THE DIFFERENT SAMPLES WAS STUDIED BY X-RAY DIFFRACTION ANALYSIS. THE ROUGHNESS VARIATIONS BEFORE AND AFTER BOMBARDMENT WERE OBSERVED BY ATOMIC FORCE MICROSCOPY. THE CORROSION TEST WAS USED TO COMPARE THE CORROSION RESISTANCE OF TITANIUM BEFORE AND AFTER BOMBARDMENT. THE SURFACE MORPHOLOGY OF THE SAMPLES WAS INVESTIGATED BY SCANNING ELECTRON MICROSCOPY THE RESULTS SHOWED THAT CRYSTALLINE SIZE CHANGES BECAUSE OF ION BOMBARDMENT HAS A SUBSTANTIAL EFFECT ON THE IMPROVEMENT OF TITANIUM RESISTANCE AGAINST CORROSION.

شاخص‌های تعامل:   مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

بازدید 187

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resourcesدانلود 0
نویسندگان: 

LIU J. | TONG L.P. | SHEN T.W.

اطلاعات دوره: 
  • سال: 

    2007
  • دوره: 

    9
  • شماره: 

    3
  • صفحات: 

    301-306
تعامل: 
  • استنادات: 

    1
  • بازدید: 

    92
  • دانلود: 

    0
کلیدواژه: 
چکیده: 

شاخص‌های تعامل:   مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

بازدید 92

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resourcesدانلود 0 مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resourcesاستناد 1 مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resourcesمرجع 0
اطلاعات دوره: 
  • سال: 

    1387
  • دوره: 

    18
  • شماره: 

    67 (ویژه نامه فیزیک)
  • صفحات: 

    1-10
تعامل: 
  • استنادات: 

    0
  • بازدید: 

    1050
  • دانلود: 

    266
چکیده: 

در این پژوهش تاثیر کاشت یونهای نیتروژن بر روی ساختار سطح و مقاومت در برابر خوردگی فلز تیتانیوم مورد بررسی قرار گرفت. در این آزمایشات از یونهای نیتروژن با انرژی 30keV در دزهای بین 5×1017ION/cm2 تا 5×1018ION/cm2 استفاده گردید. از دستگاه XRD برای آنالیز فازی و بررسی ایجاد ساختارهای جدید بر اثر کاشت یون نیتروژن و از دستگاه AFM نیز برای مشاهده تغییرات زبری در سطح قبل و بعد از کاشت استفاده گردیده است. همچنین از دستگاه آنالیز خوردگی برای مقایسه مقاومت در برابر خوردگی فلز تیتانیوم قبل و بعد از کاشت یون استفاده شده است. نتایج نشان می دهد که کاشت یون نیتروژن تاثیر قابل توجهی در بهبود مقاومت در برابر خوردگی تیتانیوم دارد.

شاخص‌های تعامل:   مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

بازدید 1050

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resourcesدانلود 266 مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resourcesاستناد 0 مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resourcesمرجع 0
اطلاعات دوره: 
  • سال: 

    1388
  • دوره: 

    19
  • شماره: 

    71(ویژه نامه فیزیک)
  • صفحات: 

    63-72
تعامل: 
  • استنادات: 

    0
  • بازدید: 

    1822
  • دانلود: 

    273
چکیده: 

مقدمه: تکنولوژی وارد کردن ناخالصی، یکی از فرآیندهای بسیار مهم برای نیمه رساناها به شمار می آید که از آن در ساختن وسایل و تجهیزات الکترونیکی مدرن استفاده می شود. در بهبود عملکرد وسایل ساخته شده از سیلیکون در مدارهای مجتمع و همچنین نیاز به هر چه کوچک تر شدن سایز این وسایل، روش کاشت یون مورد توجه بوده است. زیرا در روش کاشت یون مقدار ناخالصی و مکان ناخالصی در سیلیکون دقیقا مشخص می شود و امکان تکرار پذیری آن فراهم بوده و در مقایسه با روشهای دیگر روش قابل کنترلی است. در سال های اخیر توجه زیادی به ترکیبات نیتریدی می شود که از این بین می توان به برخی از ترکیبات نیتریدی از قبیل  AlNو GaN و Si3N4 اشاره کرد که در صنعت کار برد وسیعی داشته و بررسی بر روی آنها از لحاظ تئوری و تجربی ادامه دارد.هدف: در این تحقیق سطح ویفر سیلیکون در دزهای مختلف تحت بمباران یون های نیتروژن قرار گرفته و نتایج حاصل بررسی شده اند. هدف ما از انجام این تحقیق به دست آوردن مشخصه های ساختاری، الکتریکی و اپتیکی نیترید سیلیکون توسط فرآیند کاشت یون بوده است. نکته برجسته این تحقیق انرژی بسیار پایین یون های نیتروژن بکار برده شده جهت تولید نیترید سیلیکون بوده است.روش بررسی: نمونه های تک کریستالی سیلیکون نوع p به عنوان نمونه خام مورد استفاده قرار گرفتند. این نمونه ها با یون نیتروژن با انرژی 29 کیلوالکترون ولت و در چگالی جریان 100 mA/cm2 در دزهای 1016 تا 1018 یون بر سانتی مترمربع بمباران شدند. برای شناسایی و مطالعه نمونه ها از سیستم طیف سنجی عبوری و بازتابشی، تصاویر میکروسکپ نیروی اتمی، سیستم پراش اشعه ایکس و سیستم چهار پروب برای اندازه گیری مقاومت سطحی استفاده شد.نتایج: نتایج حاصله از الگوهای XRD تایید می کند که در این مقدار انرژی پرتو یونی، فرآیند کاشت ثابت شبکه را تغییر نمی دهد و این که بر ساختار مکعبی سیلیکون ساختار ارتورمبیک نیترید سیلیکون ساخته شد. افزایش دز پرتو یونی، میزان ناصافی سطح را افزایش داد و همچنین مقاومت ویژه سطوح نمونه های کاشته شده نیز به طور قابل توجهی تحت تاثیر فرآیند کاشت یون قرار گرفته و افزایشی در حدود 50% در پی داشت. نیز کاشت یون نیتروژن باعث تولید ترازهای تخریب در سیلیکون شده و گاف انرژی را افزایش داد.نتیجه گیری: نتایج حاصله تایید می کنند که برای ساخت لایه نانومتری نیترید سیلیکون ضرورتا نیازی به یونهای بسیار پرانرژی نیست. همانگونه که در این کار نیز نشان داده شده ا ست با انرژی در حدود 30 کیلو الکترون ولت نیز می توان به لایه ای از نیترید سیلیکون دست یافت. مطالعه این لایه نشان می دهد که نیترید سیلیکون تهیه شده به این روش تمام شرایط استفاده در صنایع نیمه هادی را دارا می باشد.

شاخص‌های تعامل:   مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resources

بازدید 1822

مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resourcesدانلود 273 مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resourcesاستناد 0 مرکز اطلاعات علمی Scientific Information Database (SID) - Trusted Source for Research and Academic Resourcesمرجع 0
litScript
telegram sharing button
whatsapp sharing button
linkedin sharing button
twitter sharing button
email sharing button
email sharing button
email sharing button
sharethis sharing button